化合物半導体研磨向けラップ盤・ポリッシュ機のエキスパート|株式会社ハイテクノス

化合物半導体のラップ加工
化合物半導体のポリッシュ加工
化合物半導体向け消耗品取り扱い
化合物半導体の研磨加工
化合物半導体向け工作機械のエキスパートハイテクノス

お知らせ

2021.04 研磨装置及び研磨治具等のシェアリング・レンタルについて
2017.06 中古機在庫に卓上片面研磨装置ML-461を追加
2017.05 中古機在庫に両面同時精密塗工装置を追加
2016.02 中古ラップ盤を更新
2015.12 古物商許可番号を会社案内に追記
2012.06 中古ラップ盤を更新
2011.03 ホームページをリニューアル、および中古ラップ盤中古ポリッシュ機を更新
2008.03 スラリーにコロイダルシリカスラリーを追加
2006.08 既設の片面ラップ盤に後付可能なフェーシングユニットを開発(螺子切可能)
2006.03 バッチ処理タイプディマウンター開発開始
2005.11 サフャイヤ基板用エッジポリッシュ機の開発開始
2005.08 ものづくり大学と共同開発で静圧軸受方式のラップ盤を開発・販売開始
2005.05 スラリー供給装置NDR-07-TBを開発・販売開始